[发明专利]成膜方法、成膜装置以及存储介质

摘要

本发明涉及成膜方法、成膜装置以及存储介质。提供一种能够利用侧流方式或横流方式的批量式的立式成膜装置来控制被处理体上的反应活性种的浓度分布的成膜技术。配置被收纳在能够保持真空的处理容器内的多个被处理体，从设置在多个被处理体的侧方的规定的位置的成膜原料气体供给部沿着多个被处理体的表面供给成膜原料气体，在利用被处理体上由成膜原料气体产生的反应活性种在多个被处理体上统一地形成规定的膜时，通过从设置在与规定的位置不同的位置的浓度调整用气体供给部向多个被处理体的表面供给浓度调整用气体，来控制多个被处理体上的反应活性种的浓度分布。

主权项

1.一种成膜方法，配置被收纳在能够保持真空的处理容器内的多个被处理体，从设置在所述多个被处理体的侧方的规定的位置的成膜原料气体供给部沿着多个被处理体的表面供给成膜原料气体，利用被处理体上由成膜原料气体产生的反应活性种在多个被处理体上统一地形成规定的膜，该成膜方法的特征在于，从设置在与所述规定的位置不同的位置的浓度调整用气体供给部向所述多个被处理体的表面供给浓度调整用气体，由此控制所述多个被处理体上的所述反应活性种的浓度分布。