[发明专利]半导体装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810458666.X 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN108573990A 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 内藤达也;黄晓橹 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/369
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 魏小薇
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本公开涉及一种半导体装置及其使用方法和制造方法。该半导体装置包括:衬底;至少一个光电转换单元,形成在衬底中,该光电转换单元能够吸收可见光从而生成电子并且能够保持电子;红外感测层,形成在衬底之上,该红外感测层位于至少一个光电转换单元之上,并且能够吸收红外辐射从而生成电子;以及电极,该电极形成在红外感测层之上。
搜索关键词: 光电转换单元 半导体装置 感测层 衬底 可见光 电极形成 红外辐射 电极 吸收 制造
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,包括:衬底;至少一个光电转换单元,形成在所述衬底中,所述光电转换单元能够吸收可见光从而生成电子并且能够保持电子;红外感测层,形成在所述衬底之上,所述红外感测层位于至少一个光电转换单元之上,并且能够吸收红外辐射从而生成电子;以及电极,所述电极形成在所述红外感测层之上。
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