[发明专利]一种基于透明柔性薄膜材料的曲面光刻工艺

摘要

本发明公开了一种基于透明柔性薄膜材料的曲面光刻工艺，包括以下步骤：(1)将目标曲面图案沿平面展开，将平面化图案制作在平面状的光刻掩膜版或硬掩膜板上；(2)选取柔性薄膜材料；(3)采用光刻掩膜版进行处理，或者采用硬掩膜板对柔性薄膜材料进行处理，得到表面具有完整非透明图案的柔性基底；(4)在待光刻的曲面上涂胶，将柔性基底紧密无缝隙的贴附在该待光刻的曲面上，经过曝光、显影后，即可实现曲面光刻。本发明通过对关键曲面光刻工艺的整体工艺流程设计、尤其是光刻图案由平面转至曲面的转换工艺步骤等进行改进，与现有技术相比能够有效解决更复杂电极、复杂微MEMS结构在具有一定的曲率结构的表面上实现的问题。

主权项

1.一种基于透明柔性薄膜材料的曲面光刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)将目标曲面图案沿平面展开，得到平面化图案，并将所述平面化图案制作在平面状的光刻掩膜版或硬掩膜板上；(2)选取透明且表面光滑平整的柔性薄膜材料，对其进行超声清洗；然后将清洗后的柔性薄膜材料平整的粘附或者是镶嵌在硬质支撑物的表面；(3)采用所述步骤(1)得到的所述光刻掩膜版进行曝光处理，或者采用所述步骤(1)得到的所述硬掩膜板进行曝光处理；其中，采用所述步骤(1)得到的所述光刻掩膜版进行曝光处理，具体是：在所述步骤(2)得到的所述柔性薄膜材料的表面上涂光刻胶，并进行匀胶处理；接着，利用所述步骤(1)得到的所述光刻掩膜版或所述硬掩膜板进行曝光，对该柔性薄膜材料的表面光刻胶进行曝光及显影处理，从而得到表面具有光刻胶平面图案的柔性薄膜基底；然后，对该表面具有光刻胶平面图案的柔性薄膜基底进行沉积处理制备非透明薄膜层，接着去除光刻胶，并将其与所述硬质支撑物分开，得到表面具有完整非透明图案的柔性基底；采用所述步骤(1)得到的所述硬掩膜板进行处理，具体是：将所述步骤(1)得到的所述硬掩膜板与所述步骤(2)得到的所述柔性薄膜材料两者紧密无缝隙的贴合并固定在一起，然后在所述硬掩膜板的掩盖下对所述柔性薄膜材料的表面进行沉积处理制备非透明薄膜层，接着将该硬掩膜板与所述柔性薄膜材料分离，并将所述柔性薄膜材料与所述硬质支撑物分开，从而得到表面具有完整非透明图案的柔性基底；(4)在待光刻的曲面上均匀的涂覆一层光刻胶，然后将所述步骤(3)得到的所述表面具有完整非透明图案的柔性基底紧密无缝隙的贴附在该待光刻的曲面上，经过曝光、显影后，即可实现曲面光刻。