[发明专利]一种硅片加工快速定位及调整的布局结构有效
| 申请号: | 201810432686.X | 申请日: | 2018-05-08 |
| 公开(公告)号: | CN108550654B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
| 发明(设计)人: | 李东林;朱太荣;林佳继;刘群;李文超;刘照安 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开一种硅片加工快速定位及调整的布局结构,包括若干上料装置、上料移送装置、旋转供料装置、加工处理装置、下料移送装置、传送带装置、两拍照装置;上料移送装置用于将若干上料装置的电池片移送至旋转供料装置;旋转供料装置用于将电池片从上料移送装置一端旋转至其中一拍照装置下方,及从拍照装置下方旋转至加工处理装置一端;加工处理装置包括若干调整机构、若干加工机构;调整机构用于从旋转供料装置取料旋转定位后,放至加工机构第一次加工;下料移送装置用于对加工机构上的电池片第二次加工后移送至传送带装置下料。本发明不仅充分利用回程或备料的时间,还提高了设备的整体及各部件的寿命。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 硅片 加工 快速 定位 调整 布局 结构 | ||
【主权项】:
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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