[发明专利]曝光剂量修正方法和设备、存储介质及X-射线医疗系统有效
| 申请号： | 201810418852.0 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN110432917B | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 赫伟;杨智明 | 申请（专利权）人： | 上海西门子医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201318 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种曝光剂量修正方法和设备、存储介质及X‑射线医疗系统。根据一实施方式，X‑射线医疗系统包括一球管和一自动曝光电离室，所述曝光剂量修正方法包括：基于所述自动曝光电离室使所述X‑射线医疗系统以一设定曝光剂量在一组给定电压下进行曝光；记录各给定电压下的球管的管电流时间积；基于所记录的管电流时间积与预采集的基准管电流时间积的对应关系，确定一修正系数；以及基于所述修正系数修正实际曝光剂量。本发明不仅便于操作，同时也无需现场维护，降低成本、提高效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 剂量 修正 方法 设备 存储 介质 射线 医疗 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于X‑射线医疗系统的曝光剂量修正方法，所述X‑射线医疗系统包括一球管和一自动曝光电离室，所述曝光剂量修正方法包括：基于所述自动曝光电离室使所述X‑射线医疗系统以一设定曝光剂量在一组给定电压下进行曝光；记录各给定电压下的球管的管电流时间积；基于所记录的管电流时间积与预采集的基准管电流时间积的对应关系，确定一修正系数；以及基于所述修正系数修正实际曝光剂量。
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