[发明专利]3~5μm红外波段雪崩光电二极管探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810408182.4 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN108630781B 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 郑婉华;彭红玲 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 谢海燕
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种3~5μm红外波段雪崩光电二极管探测器(APD)及其制作方法,该红外波段APD包括自上而下叠置的减反膜层、P+型InSb电极接触层、作为吸收层的N型InSb层、作为倍增层的P型外延Si层、和N+型Si层,其中,N型InSb层和P型外延Si层分别是InSb/Si键合晶片中的N型InSb层和P型外延Si层。由此,InSb对红外波段光的吸收大,外延Si材料的电子离化率与空穴离化率的差别较大,其过剩噪声因子小,故能获得噪声小的倍增性能,相比倍增层为InSb的情形,不仅能够使InSb/Si APD器件的噪声降低,APD探测器的响应度提升,而且经由较窄吸收层的N型InSb层和窄倍增层的P型外延Si层的组合能够实现高速、低噪声光电探测的效果;同时,使用InSb/Si键合晶片降低了与Si读出电路之间的热失配。
搜索关键词: 红外 波段 雪崩 光电二极管 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种3~5μm红外波段雪崩光电二极管探测器,包括自上而下叠置的减反膜层、P+型InSb电极接触层、吸收层、倍增层和N+型Si衬底,其中,所述吸收层和所述倍增层分别是InSb/Si键合晶片中的N型InSb层和P型外延Si层。
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