[发明专利]一类基于萘并茚芴高双光子吸收的共轭聚合物及其制备方法与应用有效
申请号: | 201810406637.9 | 申请日: | 2018-04-30 |
公开(公告)号: | CN108707221B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 应磊;郭婷;胡黎文;彭俊彪 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G61/02 | 分类号: | C08G61/02;C08G61/12;C09K11/06 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;冯振宁 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一类基于萘并茚芴高双光子吸收的共轭聚合物及其制备方法与应用。本发明以萘并茚芴单元为核心,通过分子设计及基团的合理选择,通过Suzuki聚合反应制得所述的一类基于萘并茚芴高双光子吸收的共轭聚合物。本发明的基于萘并茚芴高双光子吸收的共轭聚合物具有强的单光子荧光和双光子荧光强度,同时具有良好的溶解性,能溶解在常用有机溶剂中,便于双光子吸收性能的测试与应用,在非线性光学和荧光生物成像领域具用实际应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一类 基于 茚芴高双 光子 吸收 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一类基于萘并茚芴高双光子吸收的共轭聚合物,其特征在于,该聚合物结构式如下:
式中,n=1~1000;R为C1~C30的直链或者支链烷基、或为C1~C30的烷氧基、或为苯氧基。
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