[发明专利]一种微阵列光学元件模具的制作方法和应用在审
申请号: | 201810404564.X | 申请日: | 2018-04-28 |
公开(公告)号: | CN110412666A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 吴砺;包凌东;黄宏 | 申请(专利权)人: | 福州高意光学有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
地址: | 350000 福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及光学技术领域,尤其是涉及一种微阵列光学元件模具的制作方法,其包括以下步骤:1)用飞秒激光刻出与微阵列光学元件形状相适配的光学模具;2)采用表面熔化或者抛光方法,将光学模具的表面制作成光学级的光学表面,得到微阵列光学元件模具;所述表面熔化方法为:采用连续激光聚焦光学模具的表面以迅速熔化其表面,产生自然张力使得光学模具具有光学表面;所述抛光方法为:采用软抛光垫抛光、微球抛光、磁流变抛光和微凸针头抛光中的一种以上制作光学模具的光学表面。一种微阵列光学元件模具的应用,利用微阵列光学元件模具对光学材料进行压制加工,制得微阵列光学元件。 | ||
搜索关键词: | 微阵列 光学元件 模具 抛光 光学模具 光学表面 表面熔化 制作 光学技术领域 光学元件形状 熔化 磁流变抛光 飞秒激光 光学材料 聚焦光学 连续激光 软抛光垫 光学级 适配 微球 微凸 针头 压制 应用 加工 | ||
【主权项】:
1.一种微阵列光学元件模具的制作方法,其特征在于:其包括以下步骤:1)用飞秒激光刻出与微阵列光学元件形状相适配的光学模具;2)采用表面熔化或者抛光方法,将光学模具的表面制作成光学级的光学表面,得到微阵列光学元件模具;所述表面熔化方法为:采用连续激光聚焦光学模具的表面以迅速熔化其表面,产生自然张力使得光学模具具有光学表面;所述抛光方法为:采用软抛光垫抛光、微球抛光、磁流变抛光和微凸针头抛光中的一种以上制作光学模具的光学表面。
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