[发明专利]一种带式流转自动浸釉装置

摘要

本发明公开了一种带式流转自动浸釉装置，碗坯放置在传送带一上并且传送带一将其运动到传送支架一的末端，随后沿导向板滑倒小皮带上侧，小皮带的驱动和碗坯重力使碗坯浸入釉水然后滑到托盘的相应位置，随后转盘电机转位将碗坯运动到转盘的最上端的位置，吸盘将已完成上釉的碗坯吸住并搬运至传送带二上，传送带二将碗坯运送到下一个工序，从而完成施釉的过程。本发明用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、自动化程度不高、上釉不均匀存在死角的缺陷。

主权项

1.一种带式流转自动浸釉装置，传送带一（1）和传送带二（6）分别安装在传送支架一（17）和传送支架二（7）上，传送带一（1）和传送带二（6）的上方为待施釉的碗坯（2）和完成上釉的碗坯（2），传送支架一 （17）的右端为导向板（3），传送支架二（7）左端的上方为吸盘（5），所述传送支架一（1）和传送支架二（7）之间为釉池（8）， 其特在在于：釉池（8）的内部放置转位机构以及浸釉传送机构，所述浸釉传送机构包括异形支架（4）和小皮带（16），异形支架（4）放置于釉池（8）的内部，小皮带（16）则与异形支架（4）配合安装，小皮带（16）的一端与导向板（3）接壤；所述转位机构包括主轴（9）、托盘（10）、底座（11）、立板（12）和转盘电机（13）以及转盘（14），所述底座（11）放置在釉池（8）的内部，底座（11）的两边固定立板（12），立板（12）铰接转盘（14），所述转盘（14）通过主轴（9）连接，且转盘（14）之间安装托盘（10），主轴（9）的一端连接转盘电机（13）。