[发明专利]基于咔唑和芴的杂环化合物及其应用和有机电致发光器件有效

专利信息
申请号: 201810375106.8 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN110396081B 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 魏金贝;高文正;李国孟;张春雨 申请(专利权)人: 北京鼎材科技有限公司
主分类号: C07D403/14 分类号: C07D403/14;C07D209/86;C07D405/14;C07D417/14;C07D401/14;C07F7/08;C07D495/04;C07D491/048;C07D487/04;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 代理人: 董琳;耿超
地址: 100192 北京市海淀区西*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开涉及一种基于咔唑和芴的杂环化合物,该杂环化合物具有如下式(1)所示的结构:本公开的杂环化合物中咔唑与芴以σ键连接时不会导致共轭程度的大幅度提升,仍具有较高的三线态能级,能够作为红、绿、蓝三种发光材料的主体材料使用,其能隙也较窄,有利于载流子的注入,能够有效地降低器件的开启电压;分子结构中含有哈米特值为正数的基团,能够大幅提高分子的电子传输能力,在有机电致发光器件的发光层中使用时能够拓展其载流子的复合区域,有效地降低效率滚降;同时本公开的杂环化合物在咔唑上连接有芴基,整个分子呈现出较大的刚性扭曲结构,能够有效地降低因聚集引起的淬灭,能提高有机电致发光器件的发光效率。
搜索关键词: 基于 杂环化合物 及其 应用 有机 电致发光 器件
【主权项】:
1.一种基于咔唑和芴的杂环化合物,其特征在于,该杂环化合物具有如下式(1)所示的结构:其中,L1和L2各自独立地选自单键、取代或未取代的C6~C30的亚芳基、取代或未取代的C3~C30的亚杂芳基中的至少一种;Ar1和Ar2分别选自哈米特值为正数的基团、哈米特值为负数的取代或未取代的C6~C30的芳基、哈米特值为负数的取代或未取代的C3~C30的杂芳基和哈米特值为负数的取代或未取代的C6~C30的芳胺中的至少一种,且Ar1和Ar2中至少一个为所述哈米特值为正数的基团;R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R1’、R2’、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’和R9’各自独立地选自氢原子、C1~C10烷基、取代或未取代的C6~C30芳基和取代或未取代的C3~C30杂芳基中的至少一种;所述取代的C6~C30亚芳基、取代的C3~C30亚杂芳基、取代的C6~C30芳基、取代的C3~C30杂芳基、哈米特值为负数的取代的C6~C30的芳基、哈米特值为负数的取代的C3~C30的杂芳基和哈米特值为负数的取代的C6~C30的芳胺中的取代基各自独立地选自卤素、氰基、C1~C10的烷基、C3~C10的环烷基、C2~C6的烯基、C1~C6的烷氧基、C1~C6的硫代烷氧基、C6~C30的芳基和C3~C30的杂芳基中的至少一种。
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