[发明专利]基于咔唑和芴的杂环化合物及其应用和有机电致发光器件有效
| 申请号: | 201810375106.8 | 申请日: | 2018-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN110396081B | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
| 发明(设计)人: | 魏金贝;高文正;李国孟;张春雨 | 申请(专利权)人: | 北京鼎材科技有限公司 |
| 主分类号: | C07D403/14 | 分类号: | C07D403/14;C07D209/86;C07D405/14;C07D417/14;C07D401/14;C07F7/08;C07D495/04;C07D491/048;C07D487/04;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司: | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 董琳;耿超 |
| 地址: | 100192 北京市海淀区西*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: |
本公开涉及一种基于咔唑和芴的杂环化合物,该杂环化合物具有如下式(1)所示的结构: |
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| 搜索关键词: | 基于 杂环化合物 及其 应用 有机 电致发光 器件 | ||
【主权项】:
1.一种基于咔唑和芴的杂环化合物,其特征在于,该杂环化合物具有如下式(1)所示的结构:
其中,L1和L2各自独立地选自单键、取代或未取代的C6~C30的亚芳基、取代或未取代的C3~C30的亚杂芳基中的至少一种;Ar1和Ar2分别选自哈米特值为正数的基团、哈米特值为负数的取代或未取代的C6~C30的芳基、哈米特值为负数的取代或未取代的C3~C30的杂芳基和哈米特值为负数的取代或未取代的C6~C30的芳胺中的至少一种,且Ar1和Ar2中至少一个为所述哈米特值为正数的基团;R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R1’、R2’、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’和R9’各自独立地选自氢原子、C1~C10烷基、取代或未取代的C6~C30芳基和取代或未取代的C3~C30杂芳基中的至少一种;所述取代的C6~C30亚芳基、取代的C3~C30亚杂芳基、取代的C6~C30芳基、取代的C3~C30杂芳基、哈米特值为负数的取代的C6~C30的芳基、哈米特值为负数的取代的C3~C30的杂芳基和哈米特值为负数的取代的C6~C30的芳胺中的取代基各自独立地选自卤素、氰基、C1~C10的烷基、C3~C10的环烷基、C2~C6的烯基、C1~C6的烷氧基、C1~C6的硫代烷氧基、C6~C30的芳基和C3~C30的杂芳基中的至少一种。
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