[发明专利]一种电极涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201810358042.0 | 申请日： | 2018-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN108531856B | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 廖斌;欧阳晓平;张丰收;张旭;吴先映 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 | 代理人： | 李冬梅;苗源 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电极涂层的制备方法，包括以下步骤：1S：利用气体离子源对电极基体表面进行高低能交替清洗；2S：以碳靶为阴极，利用凯赛奥弧磁过滤沉积方法在所述电极基体上进行电极涂层的沉积。该方法沉积速率高，成本低，能实现大规模的卷对卷生产。采用该方法制备的电极涂层为四面体非晶形碳与含氢DLC的混合掺杂结构；该涂层具备高耐腐蚀性，比含氢DLC具备更高的耐温特性；同时具有高导电性，并且膜层致密性好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电极 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电极涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1S：利用气体离子源对电极基体表面进行高低能交替清洗；2S：以碳靶为阴极，利用凯赛奥弧磁过滤沉积方法在所述电极基体上进行电极涂层的沉积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京师范大学，未经北京师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810358042.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
