[发明专利]一种散射介质可控3D数字无掩模光刻系统及方法有效

专利信息
申请号: 201810331541.0 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN108445719B 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 刘杰涛;王剑南;冯蕾;李伟;郭成飞;孙雪莹;邵晓鹏 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 61205 陕西电子工业专利中心 代理人: 程晓霞;王品华
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种散射介质可控3D数字无掩模光刻系统及方法。解决了重复设计掩模,焦深小和利用率低的问题。系统中的待测量部分依次接有第一分光棱镜、空间光调制器,第一显微物镜,散射介质,第二显微物镜,位移平台,第二分光棱镜,还附有参考支路。光刻方法中首先测得多波长光学传输矩阵,通过分块寻优得到对每个单色光均适用的通用光学传输矩阵,移动位移平台使用通用光学传输矩阵对待光刻3D目标切片聚焦标定后实施3D光刻。本发明仅需测得散射介质的通用光学传输矩阵及聚焦标定,即可实施3D光刻。通过改变光源波长提高光刻分辨率,系统复杂度和元件成本低、效率高且焦深大,用于超材料、微光学器件、微机电系统等众多领域。
搜索关键词: 散射介质 光刻 传输矩阵 通用光学 数字无掩模光刻 分光棱镜 显微物镜 标定 焦深 可控 聚焦 矩阵 空间光调制器 光刻分辨率 微光学器件 微机电系统 系统复杂度 支路 光学传输 光源波长 设计掩模 位移平台 移动位移 元件成本 超材料 单色光 多波长 分块 切片 寻优 测量 参考 重复
【主权项】:
1.一种散射介质可控3D数字无掩模光刻系统,依次连接有波长可变的照明光束光源部分,待测量部分和标定及光刻控制部分,其特征在于,所述待测量部分在接收到光源部分发出的准直扩束的光波后,沿中心光路方向依次设有第一分光棱镜,空间光调制器,第一显微物镜,散射介质,第二显微物镜以及第二分光棱镜,第二显微物镜置于位移平台上,共同构成焦距可以变化的调制支路;在所述第一分光棱镜与第二分光棱镜之间还设有参考支路,所述参考支路由第一反射镜接第二反射镜构成,与调制支路共同形成干涉;所述标定及光刻部分在接收到待测量部分发出的干涉光后,沿中心光路方向依次通过第三分光棱镜,第一偏振片和探测器构成标定支路;沿与中心光路垂直方向依次通过第三分光棱镜,第二偏振片和光刻材料构成光刻支路;所述第一分光棱镜、第二分光棱镜和第三分光棱镜的镀膜分束比均为1:1;计算机分别与所述待测量部分的调制支路中的空间光调制器、位移平台以及所述标定及光刻部分的标定支路中的探测器双向数据传输与控制,无需同时移动相机和光刻材料,只需移动第二显微物镜距离散射介质的距离,实现对光刻系统的整体控制。/n
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