[发明专利]光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法

摘要

一种光学邻近效应修正模型及其建立方法和掩膜板的形成方法，建立方法包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。所述方法建立的光学邻近效应修正模型的精度较高。

主权项

1.一种光学邻近效应修正模型的建立方法，其特征在于，包括：提供若干参考图形；对所述参考图形进行阈值获取处理，获取阈值信息和参考信息，所述阈值获取处理的方法包括：以参考图形为掩膜进行第一模拟曝光处理，获取参考光强分布；根据所述参考图形获取测试掩膜板；以所述测试掩膜板为掩膜进行测试曝光处理，获取测试图形，所述测试图形具有测试尺寸；通过测试图形和参考光强分布获取阈值信息，所述阈值信息用于在所述参考光强分布中获取第一矫正图形，所述第一矫正图形具有对应于所述测试尺寸的第一矫正尺寸，所述第一矫正尺寸与所述测试尺寸相等；获取与所述参考图形对应的参考信息；重复所述阈值获取处理至获取若干参考信息以及相应的阈值信息；建立参考信息和阈值信息的对应关系模型。