[发明专利]周期性交错波导结构、以及电光调制结构和MZI结构有效

专利信息
申请号: 201810314033.1 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108490650B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 匡迎新;李智勇;刘阳;刘磊;李泽正 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02F1/035 分类号: G02F1/035;G02F1/21
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 谢海燕
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种周期性交错波导结构、以及使用它的电光调制结构和MZI结构,周期性交错波导结构呈脊型,沿波导延伸方向在脊型波导中心形成有条状插指形n型Si掺杂区,在插指间形成有p型SiGe掺杂区,n型Si掺杂区和p型SiGe掺杂区周期性交错排列,n型Si掺杂区在其插指的一侧连接且与脊型波导中心底部连接,n型Si掺杂区的插指底部与在脊型波导中心底部连接的n型Si掺杂区的上表面之间设置有空隙,在该空隙设置有p型SiGe掺杂区而使在插指间形成的p型SiGe掺杂区相连。由此,SiGe材料载流子有效质量减小,自由载流子等离子色散效应增强,而使SiGe材料的折射率变化增大,从而优化了调制效率、调制速度、调制功耗,获得了尺寸降低而调制性能提升的效果。
搜索关键词: 周期性 交错 波导 结构 以及 电光 调制 mzi
【主权项】:
1.一种周期性交错波导结构,其呈脊型,包括:沿波导延伸方向在脊型波导中心形成的条状插指形Si掺杂区;以及形成在所述插指之间的SiGe掺杂区;其中,所述Si掺杂区和所述SiGe掺杂区周期性交错排列。
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