[发明专利]一种疏水材料表面直接修饰超亲水涂层的方法在审

专利信息
申请号: 201810306372.5 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN110343280A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 张健夫;常文阳;易宇亮;康厚宽;吴桐;王丹 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C08L23/08;C08L23/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130000 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 一种可以修饰在疏水材料表面上的超亲水涂层。它是通过层层组装的方式直接修饰于疏水性材料的表面。该超亲水涂层接触角小于10°,修饰在疏水材料表面后可使其获得亲水性能并具有良好通透性。所制备的超亲水涂层操作简便,制得后可应用于光学仪器或材料中,且不影响其光学性能,并获得亲水性。
搜索关键词: 超亲水涂层 修饰 疏水材料 疏水性材料 光学仪器 层层组装 光学性能 亲水性能 接触角 亲水性 通透性 制备 应用
【主权项】:
1.一种疏水材料表面直接修饰超亲水涂层的方法,其特征,步骤和条件如下:(1)阳离子构筑基元A‑C溶液的制备室温下,将0.01–1g A溶解在10–100mL去离子水中,调节溶液的pH为7.0–13.0,得到A溶液。将0.01–1g C溶解在10–100mL去离子水中,然后加入0.01–1g EDC,反应1–48h,得到C溶液。最后将第一步制得的A溶液加入第二步制得C溶液中,反应1–48h,即可制得阳离子构筑基元A‑C溶液。所述的A为分子链中含有氨基的水溶性高分子。(2)阴离子构筑基元B‑D溶液的制备室温下,将0.01–1g B溶解在10–100mL,pH为5.7–8.0,浓度为0.01–0.2moL/L的PBS中,调节溶液的pH为5.0–10.0,然后加入0.01–10g EDC。反应1–48h。最后将0.01–10g D加入上述溶液,反应1–48h即可制得阴离子构筑基元B‑D溶液。所述的B为分子链中含有羧基的水溶性高分子,优选的B为PAA或HA,所述的D为分子中含有氨基的儿茶酚类物质。(3)超亲水涂层的制备1)疏水材料基底的处理室温下,用无水乙醇将材料表面擦拭干净。所述的疏水材料可以是任意形状。2)沉积有不同周期的超亲水涂层的制备室温下,将处理过的基底依次在A‑C和B‑D溶液中进行交替沉积,分别沉积0.1–10h,作为一个沉积周期,重复n个周期,得到(A‑C/B‑D)*n涂层,所述n为自然数。
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