[发明专利]指纹识别传感器及其制备方法以及指纹识别设备在审
| 申请号： | 201810304347.3 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN108321152A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 梁志伟;刘英伟;罗雯倩;刘清召;狄沐昕 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L25/16 | 分类号： | H01L25/16;H01L29/786;H01L21/336;G06K9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开的实施例提供了一种指纹识别传感器及其制备方法以及指纹识别设备。该指纹识别传感器包括衬底和位于衬底上的多个传感器单元，每个传感器单元包括薄膜晶体管和光敏器件。所述薄膜晶体管包括源极和漏极、有源层和栅极，所述源极和漏极沿垂直于衬底表面的纵向方向布置，所述有源层的至少一部分沿垂直于衬底表面的纵向方向位于所述源极和漏极之间。 | ||
| 搜索关键词： | 指纹识别传感器 漏极 源极 指纹识别设备 薄膜晶体管 传感器单元 衬底表面 衬底 源层 制备 垂直 光敏器件 | ||
【主权项】：
1.一种指纹识别传感器，包括：衬底；位于衬底上的多个传感器单元，每个传感器单元包括薄膜晶体管和光敏器件；其中，所述薄膜晶体管包括源极和漏极、有源层和栅极，所述源极和漏极沿垂直于衬底表面的纵向方向布置，所述有源层的至少一部分沿垂直于衬底表面的纵向方向位于所述源极和漏极之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810304347.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：芯片封装组件及其制造方法
- 下一篇：静电放电保护结构及其形成方法
- 同类专利
- 专利分类
