[发明专利]一种高线密度光栅掩模的制备方法和系统有效
| 申请号： | 201810300891.0 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN108490524B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 唐玉国;巴音贺希格;焦庆斌;朱春霖;谭鑫;吕强;胡昊;邱俊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种高线密度光栅掩模的制备方法和系统，所述方法包括以下步骤：将激光器发射出的激光经过激光扩束镜进行扩束后形成第一平行光束；将第一平行光束正入射在矩形振幅透射光栅上，并在矩形振幅透射光栅之后的第一位置形成泰伯像，所述泰伯像与待拉伸的光栅掩模形成莫尔条纹；采用拉伸装置沿待拉伸的光栅掩模的条纹方向对待拉伸的光栅掩模进行拉伸，以提高待拉伸的光栅掩模的线密度；采用CCD传感器实时探测拉伸过程中的莫尔条纹，并根据探测的莫尔条纹实时计算出拉伸过程中光栅掩模的线密度，直至计算出的线密度达到预设线密度。相比于传统拉伸法需要仿真模拟材料和拉力关系的方式，本发明具有步骤简单、精准度高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密度 光栅 制备 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种高线密度光栅掩模的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将激光器发射出的激光经过激光扩束镜进行扩束后形成第一平行光束；将第一平行光束正入射在矩形振幅透射光栅上，并在矩形振幅透射光栅之后的第一位置形成泰伯像，所述泰伯像与待拉伸的光栅掩模形成莫尔条纹；所述待拉伸的光栅掩模设置于所述第一位置，所述第一位置还设置有拉伸装置；采用拉伸装置沿待拉伸的光栅掩模的条纹方向对待拉伸的光栅掩模进行拉伸，以提高待拉伸的光栅掩模的线密度；所述拉伸装置包括传动机构、第一夹片和第二夹片；所述第一夹片和第二夹片分别用于夹持待拉伸的光栅掩模的两端，第一夹片和第二夹片能够在传动机构作用下沿待拉伸的光栅掩模的条纹方向运动，以对待拉伸的光栅掩模进行拉伸；采用CCD传感器实时探测拉伸过程中的莫尔条纹，并根据探测的莫尔条纹实时计算出拉伸过程中光栅掩模的线密度，直至计算出的线密度达到预设线密度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810300891.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
