[发明专利]具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端在审
| 申请号： | 201810290907.4 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108508521A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 颜源 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B5/18;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端。该制作方法包括：在基板上形成金属层；在所述金属层上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层和偏振光栅图案层；根据所述遮挡层对所述金属层进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部和直接连接于所述偏振部的遮光部。提高了显示面板的结构的紧凑性。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振光栅 显示面板 金属层 遮挡层 显示模组 阵列基板 遮光层 偏振 制作 终端 遮光图案层 紧凑性 图案层 遮光部 基板 刻蚀 | ||
【主权项】：
1.一种具有遮光层的偏振光栅的制作方法，其特征在于，包括：在基板(10)上形成金属层(20)；在所述金属层(20)上形成遮挡层，其中，所述遮挡层包括遮光图案层(31)和偏振光栅图案层(32)；根据所述遮挡层对所述金属层(20)进行刻蚀，以形成所述偏振光栅，其中，所述偏振光栅包括偏振部(22)和直接连接于所述偏振部(22)的遮光部(21)。
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