[发明专利]氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法在审
| 申请号： | 201810276951.X | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108329026A | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 王相南;刘涛;易茂义;李静云;莫扬成;于景坤 | 申请（专利权）人： | 东北大学 |
| 主分类号： | C04B35/48 | 分类号： | C04B35/48;C04B35/622;G01N27/407 |
| 代理公司： | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人： | 齐胜杰 |
| 地址： | 110169 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于电化学氧传感器技术领域，尤其涉及氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法。本发明所提供的制备方法，是在电解质层素坯上采用化学气相沉积法形成致密扩散层，或者是在致密扩散层素坯上采用化学气相沉积法形成电解质层。该制备方法制备出的电解质层和致密扩散层双层结构中电解质层和致密扩散层的结合强度高，制备速度快，适用于大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 致密 扩散层 制备 电解质层 双层结构 化学气相沉积 用电解质层 氧传感器 素坯 电化学氧传感器 | ||
【主权项】：
1.一种氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、制备电解质层素坯；S2、采用化学气相沉积法使反应气体在所述电解质层素坯上发生化学反应，并在所述电解质层素坯上沉积形成致密扩散层素坯；S3、对所述带有致密扩散层素坯的电解质层素坯进行烧结；S4、将所述烧结后的带有致密扩散层素坯的电解质层素坯冷却至室温，冷却后的致密扩散层素坯形成致密扩散层，冷却后的电解质层素坯形成电解质层，所述致密扩散层和所述电解质层彼此叠置且相连，形成双层结构。
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