[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201810270282.5 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108693719B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 铃木启之;杉山茂久 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置及曝光方法，在逐次曝光中不使生产能力下降而进行按每次拍摄的校准。曝光装置(100)将形成在掩模(M)上的图案经由投影光学系统(30)向形成在工件(W)上的多个拍摄区域依次转印。曝光装置(100)具备：检测形成在工件(W)上的第1拍摄区域的校准标记的第1检测部(51)；检测形成在工件(W)上的、相邻于第1拍摄区域的第2拍摄区域的校准标记的第2检测部(52)；控制部(62)，控制上述多个拍摄区域的转印。控制部同时进行由第1检测部对校准标记的检测和由第2检测部对校准标记的检测，基于第1检测部的检测结果及第2检测部的检测结果控制向第1拍摄区域及第2拍摄区域的转印。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，将形成在掩模上的图案经由投影光学系统向形成在工件上的多个拍摄区域依次转印，该曝光装置的特征在于，具备：第1检测部，检测形成在上述工件上的、与第1拍摄区域对应的校准标记；第2检测部，检测形成在上述工件上的、与相邻于上述第1拍摄区域的第2拍摄区域对应的校准标记；以及控制部，控制上述多个拍摄区域的上述转印；上述控制部，同时进行由上述第1检测部对上述校准标记的检测和由上述第2检测部对上述校准标记的检测，基于上述第1检测部及上述第2检测部的检测结果，分别计算上述第1拍摄区域的位置信息及上述第2拍摄区域的位置信息并存储，基于上述第1拍摄区域的位置信息及上述第2拍摄区域的位置信息，分别进行上述掩模与上述第1拍摄区域及上述第2拍摄区域的对位，进行向上述第1拍摄区域及上述第2拍摄区域的上述转印。
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