[发明专利]一种针对光场阵列相机的焦外虚化重聚焦方法有效

专利信息
申请号: 201810256182.7 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108337434B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 杨俊刚;王应谦;肖超;李骏;安玮 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 魏国先;王娟
地址: 410000 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种针对光场阵列相机的焦外虚化重聚焦方法,首先采用现有的深度估计算法对当前场景的深度进行估计,得到当前场景的深度分布图。而后,基于深度估计的结果,按照光学虚化的模型来计算图像不同位置、不同深度值处所对应的模糊,得到焦外虚化图像。最后,本发明的算法将重聚焦过程的结果与计算虚化过程的结果进行融合,生成聚焦区域高信噪比,非聚焦区域柔和虚化的高质量重聚焦图像。本发明可以使光场阵列相机在实现重聚焦功能的基础上,解决了由于其角度稀疏采样导致的焦外高频混叠问题,改善了重聚焦图像的质量。
搜索关键词: 一种 针对 阵列 相机 焦外虚化重 聚焦 方法
【主权项】:
1.一种针对光场阵列相机的焦外虚化重聚焦方法,其特征在于,包括以下步骤:1)估计当前场景的深度,得到当前场景的深度分布图;2)计算深度分布图中焦外虚化弥散圆直径;3)计算虚化的图像,得到外虚化图像;4)计算重聚焦图像;5)将焦外虚化图像Iblur与重聚焦图像Irefocus进行融合,得到最终的焦外虚化重聚焦融合图像Ifuse。
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