[发明专利]一种耐磨性能优异的光扩散膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201810249988.3 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN110157026A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 林成辉 | 申请（专利权）人： | 林成辉 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C09D4/02;C09D4/06;C08L67/02;G02B1/04;G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李静 |
| 地址： | 511500 广东省清*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种耐磨性能优异的光扩散膜，包括基材层、设置在基材层上表面的光扩散层、设置在基材层下表面的防粘连层，所述光扩散层包括以下原料：丙烯酸酯树脂、乙二醇二丙烯酸酯、聚二甲基硅氧烷、聚甲基丙烯酸甲酯微珠、纳米碳酸钙、聚异氰酸酯、三甲基十六烷基溴化铵；所述防粘连层包括以下原料：丙烯酸酯树脂、乙二醇二丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯微珠、聚异氰酸酯、芥酸酰胺。本发明还公开了所述耐磨性能优异的光扩散膜的制备方法。本发明制备的光扩散膜具有优异的耐磨性能，有利于提高产品的质量，延长产品的使用寿命，具有重要的市场价值和社会价值。 | ||
| 搜索关键词： | 光扩散膜 耐磨性能 制备 聚甲基丙烯酸甲酯 乙二醇二丙烯酸酯 丙烯酸酯树脂 聚异氰酸酯 防粘连层 光扩散层 微珠 三甲基十六烷基溴化铵 聚苯乙烯 聚二甲基硅氧烷 基材层上表面 基材层下表面 纳米碳酸钙 芥酸酰胺 使用寿命 基材层 | ||
【主权项】：
1.一种耐磨性能优异的光扩散膜，其特征在于，包括基材层、设置在基材层上表面的光扩散层、设置在基材层下表面的防粘连层，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂60‑65份、乙二醇二丙烯酸酯18‑22份、聚二甲基硅氧烷0.7‑1.1份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠25‑29份、纳米碳酸钙2‑4份、聚异氰酸酯2‑5份、三甲基十六烷基溴化铵1‑2份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂70‑80份、乙二醇二丙烯酸酯25‑29份、聚苯乙烯19‑23份、聚甲基丙烯酸甲酯微珠14‑18份、聚异氰酸酯2‑5份、芥酸酰胺1‑2份。
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