[发明专利]一种大面积金属光栅的制备方法及制备系统在审
申请号: | 201810244966.8 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108345057A | 公开(公告)日: | 2018-07-31 |
发明(设计)人: | 巴音贺希格;朱春霖;王玮;谭鑫;焦庆斌;吕强;刘兆武;胡昊;邱俊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 赵勍毅 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明公开了一种大面积金属光栅的制备方法及制备系统。本发明公开的大面积金属光栅的制备方法包括步骤:在石英基底上涂布光刻胶并烘干;获取光刻胶光栅掩膜;腐蚀所述石英基底上的石英,在所述石英基底上制作出石英光栅;在所述石英光栅的槽底制作一层电铸所需的金属种子层;腐蚀所述光刻胶,去除所述光刻胶光栅掩膜;将所述槽底设置有所述金属种子层的石英光栅浸入电铸液进行电铸;对电铸处理后的石英光栅用去离子水冲洗并吹干;将所述石英光栅浸入腐蚀液,腐蚀掉石英,将金属光栅剥离出来。本发明公开的一种大面积金属光栅的制备方法和制备系统能实现大面积金属光栅的制备。 | ||
搜索关键词: | 金属光栅 石英光栅 石英 制备 制备系统 电铸 基底 光刻胶光栅 金属种子层 浸入 光刻胶 腐蚀 掩膜 去离子水 电铸液 腐蚀液 吹干 烘干 去除 冲洗 剥离 制作 | ||
【主权项】:
1.一种大面积金属光栅的制备方法,其特征在于,所述大面积金属光栅的制备方法包括步骤:在石英基底上涂布光刻胶并烘干;获取光刻胶光栅掩膜;腐蚀所述石英基底上的石英,在所述石英基底上制作出石英光栅;在所述石英光栅的沟槽的槽底制作一层电铸所需的金属种子层;腐蚀所述光刻胶,去除所述光刻胶光栅掩膜;将所述槽底设置有所述金属种子层的石英光栅浸入电铸液进行电铸;对电铸处理后的石英光栅用去离子水冲洗并吹干;将所述石英光栅浸入腐蚀液,腐蚀掉石英,将金属光栅剥离出来。
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