[发明专利]固态氢靶系统和使用它的激光离子源有效
| 申请号： | 201810243546.8 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108511314B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 孙良亭;赵环昱;沈叮叮;张俊杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | H01J49/10 | 分类号： | H01J49/10;H01J49/06;A61N5/10 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 谢海燕 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明提供了固态氢靶系统及使用它的激光离子源，该固态氢靶系统包括：气体固化基座；气体固化坑，其作为冷冻靶位于气体固化基座的中央部；吸附罩，其围绕着气体固化基座，且该吸附罩的内表面粘贴有活性炭；其中，在固态氢靶系统所在的真空腔室为基础真空度的状态下，当从正对着气体固化坑的喷嘴即氢气出气口喷出预冷的氢气，该氢气立刻在冷冻靶凝结沉积而形成固体氢靶，对固态氢靶的靶面进行激光打靶，所气化的氢气由活性炭快速吸收，由此，有效维持了真空腔室的基础真空度，保证了激光打靶重复率，而使质子产生稳定性提高。 | ||
| 搜索关键词： | 气体固化 固态氢 靶系统 氢气 基础真空度 活性炭 激光打靶 激光离子 真空腔室 吸附罩 冷冻 氢气出气口 快速吸收 喷嘴 固体氢 内表面 气化的 中央部 重复率 靶面 喷出 预冷 正对 质子 沉积 粘贴 凝结 保证 | ||
【主权项】：
1.一种固态氢靶系统，包括：/n气体固化基座；/n气体固化坑，其作为冷冻靶位于所述气体固化基座的中央部；/n吸附罩，其围绕着所述气体固化基座，且该吸附罩的内表面粘贴有活性炭；/n其中，在所述固态氢靶系统所在的真空腔室为基础真空度10
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