[发明专利]用于生成辐射处理计划中的剂量计算的系统和方法有效
| 申请号： | 201810235106.8 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108771794B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | E·库塞拉;J·诺德;J·皮里;P·尼梅拉 | 申请（专利权）人： | 瓦里安医疗系统国际股份公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于生成辐射处理计划中的剂量计算的系统和方法。使用第一注量图集和第一(更快的)剂量预测模型计算的第一剂量被访问。第二注量图被访问。第二注量图被投影到第一注量图集上来确定标量集和残值。当残值满足准则时，第二剂量使用第一剂量预测模型、标量集和第二注量图来计算。当残值不满足准则时，第二剂量使用第二(更准确的)剂量预测模型和第二注量图来计算。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 辐射 处理 计划 中的 剂量 计算 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种计算系统，包括：中央处理单元(CPU)；以及存储器，耦合到所述CPU，并且在所述存储器中已经存储指令，当所述指令由所述计算系统执行时，使得所述计算系统执行与生成辐射处理计划相关联的操作，所述操作包括：访问使用第一注量图集和第一剂量预测模型计算的第一剂量；访问第二注量图；将所述第二注量图投影到所述第一注量图集上来确定标量集和残值；以及当所述残值满足准则时，使用所述第一剂量预测模型、所述标量集和所述第二注量图来计算第二剂量，并且其中当所述残值不满足所述准则时，使用第二剂量预测模型和所述第二注量图来计算所述第二剂量。
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