[发明专利]一种半导体芯片结构参数分析方法在审

专利信息
申请号: 201810209068.9 申请日: 2018-03-14
公开(公告)号: CN108447796A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 吴照玺;丁鸷敏;段超;王小青;倪晓亮;田阳 申请(专利权)人: 中国空间技术研究院
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 范晓毅
地址: 100194 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体芯片结构参数分析方法,包括:确定半导体芯片所使用的安装材料,采用与所述安装材料相对应的获取方式,从器件中获取至少两个版图信息一致的半导体芯片;对获取到的至少两个半导体芯片中的第一半导体芯片进行横向去层,并识别各层结构信息,得到第一半导体芯片的横向结构信息;对获取到的至少两个半导体芯片中的第二半导体芯片进行纵向剖面制作,并识别得到第二半导体芯片的纵向结构信息;根据横向结构信息和纵向结构信息,确定半导体芯片的结构参数。通过本发明可以获取每层芯片的版图结构和芯片纵向的结构参数,为芯片失效分析、结构分析和芯片设计提供技术参考。
搜索关键词: 半导体芯片 半导体芯片结构 安装材料 参数分析 横向结构 结构参数 纵向结构 版图结构 版图信息 获取方式 技术参考 结构分析 芯片设计 芯片失效 芯片纵向 纵向剖面 层结构 芯片 制作 分析
【主权项】:
1.一种半导体芯片结构参数分析方法,其特征在于,包括:确定半导体芯片所使用的安装材料,采用与所述安装材料相对应的获取方式,从器件中获取至少两个版图信息一致的半导体芯片;对获取到的至少两个半导体芯片中的第一半导体芯片进行横向去层,并识别各层结构信息,得到第一半导体芯片的横向结构信息;对获取到的至少两个半导体芯片中的第二半导体芯片进行纵向剖面制作,并识别得到第二半导体芯片的纵向结构信息;根据横向结构信息和纵向结构信息,确定半导体芯片的结构参数。
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