[发明专利]一种光固化含钛纳米压印胶、制备方法及其在未防粘模板直接压印中的应用在审
| 申请号： | 201810190148.4 | 申请日： | 2018-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN108445717A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 胡昕;张翔;陈欣睿;吴文宁;程梦怡;段正达;罗铭;左晓兵 | 申请（专利权）人： | 常熟理工学院 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 215500 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于纳米压印技术领域，具体公开了一种光固化含钛纳米压印胶、制备方法及其在未防粘模板直接压印中的应用，该纳米压印胶中含有含钛螯合物低聚体，其通过烷氧基钛与乙酰乙酸甲基丙烯酸乙二醇酯的螯合反应及进一步的缩合反应而制得；该螯合物可溶于有机溶剂，在可见光引发剂存在下，通过光固化交联成三维网络状结构，而无需另外加入交联剂。尤为重要的是，该压印胶具有很高的氧气刻蚀选择比，可以在制备高深宽比的双层压印结构中代替聚硅氧烷基压印胶，并且采用PDMS模板压印时，无需对PDMS模板进行防粘处理，大大地提高的压印的成本和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 压印胶 压印 光固化 制备 钛纳米 防粘 甲基丙烯酸乙二醇酯 三维网络状结构 可见光引发剂 纳米压印技术 含钛螯合物 聚硅氧烷基 刻蚀选择比 纳米压印胶 防粘处理 高深宽比 缩合反应 烷氧基钛 压印结构 乙酰乙酸 有机溶剂 螯合反应 低聚体 交联剂 螯合物 可溶 氧气 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光固化含钛纳米压印胶，其特征在于：该纳米压印胶中含有含钛螯合物低聚体，该含钛螯合物低聚体具有如下化学结构：![]()
其中，R为乙基、丁基或异丙基，n＝1～5。
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