[发明专利]一种近红外宽光谱的CMOS单光子雪崩二极管探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810182345.1 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108511467B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 赵庭晨;徐跃;袁丰 申请(专利权)人: 南京邮电大学;南京邮电大学南通研究院有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 唐绍焜
地址: 210023 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种近红外宽光谱的CMOS单光子雪崩二极管探测器,包括同轴设置的呈圆柱形的P型衬底、P外延区、深N阱区、中心N阱区、N+区以及圆环形的第一P阱区、侧N阱区、第二P阱区和P+区。本发明提出的SPAD探测器在深N阱与P‑外延层之间形成深的主雪崩区,可探测近红外短波光子;同时深N阱内部有两个浅的次雪崩环区,可探测短波光子,从而实现从蓝光到近红外短波的宽光谱光子探测。本发明可在标准CMOS工艺制作,具有集成度高、功耗低、抗干扰能力强等优点。
搜索关键词: 一种 红外 光谱 cmos 光子 雪崩 二极管 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种近红外宽光谱的CMOS单光子雪崩二极管探测器,其特征在于:包括同轴设置的呈圆柱形的P型衬底、P外延区、深N阱区、中心N阱区、N+区以及圆环形的第一P阱区、侧N阱区、第二P阱区和P+区;所述P‑外延层区设置在所述P型衬底的上方,在所述P型衬底与所述P‑外延层区之间的中间设置有P+埋层区;所述深N阱区设置在所述P‑外延层的中间位置位于所述P+埋层区上端,所述深N阱区与所述P+埋层区之间设有间隙;所述中心N阱区设置在所述深N阱区上部中间位置,所述第一P阱区设置在所述中心N阱区外侧,所述侧N阱区设置在所述第一P阱区外侧,所述侧N阱区的外径小于所述深N阱区的直径,所述侧N阱区、第一P阱区和中心N阱区的上下端面平齐;在所述深N阱区表面设置有N+区,所述N+区的下端面与所述侧N阱区、第一P阱区、中心N阱区均接触,所述N+区的直径大于所述深N阱区的直径;在所述P‑外延层上部位于所述深N阱区外侧设置有第二P阱区,在所述第二P阱区表面设置有P+区,所述第二P阱区的上端面与所述N阱区的上端面平齐,所述P+区的上端面与所述N+区的上端面平齐;在所述P+区内外侧上均设置有浅沟槽隔离区,所述浅沟槽隔离区的上端面与所述P+区的上端面平齐,所述浅沟槽隔离区的下端面深于所述P+区的下端面;在所述P+区上端引出阳极,在所述P阱区的上端引出阴极。
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