[发明专利]一种多维度纳米复合材料的阵列式液相合成系统有效

专利信息
申请号: 201810180349.6 申请日: 2018-03-05
公开(公告)号: CN108483486B 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 林红;张琦 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C01G21/00 分类号: C01G21/00;B82Y30/00
代理公司: 11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 张文宝
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种多维度纳米复合材料的阵列式液相合成系统,该系统按照工艺流程依序包括前期处理设备、低维单相纳米材料合成设备、中期处理设备、纳米复合材料合成设备和后期处理设备以及辅助通道。该系统可精准定位低维单相纳米材料及其复合材料合成的关键环节,通过对不同阶段的材料进行处理,改善表面或界面特性,并高精度控制液相合成方法及其工艺条件,可获得满足不同需求的小批量、多维度、高品质、良好稳定性、优异各向异性的单相纳米材料及其纳米复合材料,具有结构简单、利用率高、用途广、产品质量高、成本低、可连续化生产等特点。此外,该系统也可用于前驱体溶液的合成、纳米复合材料定向生长控制、表面及界面处理、纳米器件的组装。
搜索关键词: 纳米复合材料 液相合成 多维度 纳米材料 阵列式 低维 复合材料合成 纳米材料合成 高精度控制 连续化生产 前驱体溶液 处理设备 定向生长 辅助通道 工艺条件 关键环节 合成设备 后期处理 界面处理 界面特性 精准定位 纳米器件 前期处理 工艺流程 高品质 小批量 可用 组装 合成
【主权项】:
1.一种多维度纳米复合材料的阵列式液相合成系统,其特征在于:按照工艺流程依序包括前期处理设备、低维单相纳米材料合成设备、中期处理设备、复合材料合成设备和后期处理设备以及辅助通道;/n阵列式液相合成系统可精准定位低维单相纳米材料及其复合材料合成的关键环节,通过对不同阶段的材料进行处理,改善表面或界面特性,并高精度控制液相合成方法及其工艺条件;/n其中,前期处理设备通过调节添加液类型、溶液浓度、温度、pH值的工艺条件,修饰合成材料的表面结构,为纳米材料的合成提供适宜的前驱体溶液、材料的界面修饰、合成材料及合成环境;低维单相纳米材料合成设备通过控制添加液类型、溶液浓度、温度、pH值的溶剂合成条件及外加场类型、电场强度、时间的外加电场条件,控制合成零维、一维或二维的低维单相纳米材料的形貌、尺寸、各向异性的合成;中期处理设备和后期处理设备通过调节添加液类型、溶液浓度、温度、pH值的工艺条件,修饰低维单相纳米材料的表面结构,为复合材料合成提供适宜的合成材料及合成环境,并可实现对纳米材料的清洗及复合材料合成环境的调节;纳米复合材料合成设备通过控制添加液类型、溶液浓度、温度、pH值的溶剂合成条件及外加场类型、电场强度、时间的外加电场条件,控制零维/一维核壳结构材料、一维/二维表面负载零维材料、二维表面负载一维构建准三维结构材料、二维范德瓦尔斯异质结及由其组成的多结构/异质结的纳米复合材料合成;辅助通道用于分别为各个设备提供前驱体溶液、低维单相纳米材料以及复合材料。/n
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