[发明专利]图案化的金属层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810162652.3 申请日: 2018-02-26
公开(公告)号: CN108389784B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 阮勇;尤政;孙伟杨;宋志强 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 刘诚
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种图案化的金属层的制备方法,包括:提供一基底,在基底上依次形成底层胶和光刻胶;对带有底层胶及光刻胶的基底曝光并置于显影液中以同时图案化,其中在显影液中,底层胶的溶解速度大于曝光后的光刻胶的溶解速度;在带有图案化的底层胶及光刻胶的基底上淀积金属层;剥离底层胶及光刻胶,得到图案化的金属层。本发明制备方法中,底层胶和光刻胶在显影液中以同时图案化后,形成的光刻胶与底层胶图形上宽下窄,在金属层淀积时就不会淀积到底层胶侧壁上,也不会形成金属连接。因此,在剥离的过程中,剥离液很容易进入底层胶并快速溶解底层胶和光刻胶,实现光刻胶上金属层的剥离,剥离效果较好,从而得到所需要的图案化的金属层。
搜索关键词: 底层胶 光刻胶 图案化 金属层 显影液 基底 制备 剥离 淀积 溶解 剥离效果 淀积金属 基底曝光 金属连接 快速溶解 上金属层 上宽下窄 剥离液 侧壁 曝光
【主权项】:
1.一种图案化的金属层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供一基底,在所述基底上依次形成底层胶和光刻胶,所述底层胶为LOR胶,所述光刻胶为正性光刻胶;对带有底层胶及光刻胶的所述基底曝光并置于显影液中以同时图案化,其中在所述显影液中,所述底层胶的溶解速度大于曝光后的光刻胶的溶解速度;在带有图案化的底层胶及光刻胶的所述基底上淀积金属层;剥离所述底层胶及所述光刻胶,得到图案化的金属层。
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