[发明专利]一种亲疏水两性微图案化高分子模板及其制备方法有效
| 申请号： | 201810161375.4 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108341984B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 白秀琴;王超宝;郭智威;袁成清;董从林 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C08J7/16 | 分类号： | C08J7/16;C08J7/12;C08J7/04;C08J7/056;C08L33/04;B63B1/38 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 刘洋 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种亲疏水两性微图案化高分子模板及其制备方法。在连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的疏水高分子聚合物微模块；且连续的亲水高分子聚合物薄膜与疏水高分子聚合物微模块的表面齐平。本发明连续的亲水组分的表面与水结合，在微气泡间形成了相对稳定的液膜，这有助于提高微气泡的稳定性。亲疏水两性微图案化高分子模板因其表面的这种特殊的浸润性能，为降低水环境中摩擦表面的摩擦阻力系数提供了保证。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 亲疏 两性 图案 高分子 模板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种亲疏水两性微图案化高分子模板，其特征在于在连续的亲水高分子聚合物薄膜上排列分布有呈规则几何图案的疏水高分子聚合物微模块；且连续的亲水高分子聚合物薄膜与疏水高分子聚合物微模块的表面齐平。
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