[发明专利]一种虚像像距测量系统和虚像像距的确定方法有效

专利信息
申请号: 201810135917.0 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN108362479B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 张浩;刘亚丽;陈丽莉;王晨如;董瑞君;张雪冰;陈寅伟;王雪丰;孙玉坤;苗京花 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种虚像像距测量系统和虚像像距的确定方法。系统包括拍摄装置、参考物体和量测装置;拍摄装置,用于处于第一拍摄位置时,在预设模式下对虚拟物体进行对焦,使虚拟物体在拍摄装置中清晰成像;参考物体,用于在拍摄装置处于第二拍摄位置且在对焦状态时,沿光轴移动,直至在拍摄装置中清晰成像;量测装置,用于标定参考物体在拍摄装置中清晰成像时,参考物体与拍摄装置之间的距离,距离为虚拟物体的虚像像距。本发明实施例使得确定虚像像距的方法简单易操作,能够满足虚拟现实设备和增强现实设备等显示设备的检测校正需求,解决了现有技术中确定虚像像距对设备要求较高的问题。
搜索关键词: 一种 虚像 测量 系统 确定 方法
【主权项】:
1.一种虚像像距测量系统,其特征在于,所述虚像像距测量系统用于测量显示设备显示的虚拟物体的虚像像距,所述系统包括拍摄装置、参考物体和量测装置;所述拍摄装置具有第一拍摄位置和第二拍摄位置,在所述第一拍摄位置,所述显示设备位于所述拍摄装置的光轴上;在所述第二拍摄位置,所述参考物体位于所述拍摄装置的光轴上;所述拍摄装置,用于处于所述第一拍摄位置时,在预设模式下对所述虚拟物体进行对焦,使所述虚拟物体在所述拍摄装置中清晰成像;所述参考物体,用于在所述拍摄装置处于第二拍摄位置且在对焦状态时,沿所述光轴移动,直至在所述拍摄装置中清晰成像;所述量测装置,用于标定所述参考物体在所述拍摄装置中清晰成像时,所述参考物体与所述拍摄装置之间的距离,所述距离为所述虚拟物体的虚像像距。
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