[发明专利]一种促进阳离子型有机分子插层高岭石的方法有效
| 申请号： | 201810127340.9 | 申请日： | 2018-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN110127713B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 吉雷波;张学法;张士龙;曹伟;刘磊;华振 | 申请（专利权）人： | 枣庄市三兴高新材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/44 | 分类号： | C01B33/44 |
| 代理公司： | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人： | 王明霞 |
| 地址： | 277319 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于高岭石插层复合物的制备领域，具体涉及一种促进阳离子型有机分子插层高岭石的方法。所述的方法除包括插层反应外还包括预酸洗。所述的预酸洗为将甲醇/高岭石层间接枝复合物与酸混合加热，再离心，然后用甲醇洗涤、离心。本发明预酸洗后，将所得离心沉淀物与阳离子型有机分子进行插层反应，成功制备得到了阳离子型有机分子/高岭石插层复合物，解决了阳离子型有机分子无法插层酸催化快速制备的甲醇/高岭石层间接枝复合物的问题。同时，此工艺对高岭石的插层反应机理具有重要的研究意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 促进 阳离子 有机 分子 层高 方法 | ||
【主权项】：
1.一种促进阳离子型有机分子插层高岭石的方法，包括插层反应，其特征在于，所述的方法还包括预酸洗。
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