[发明专利]空间催化式化学气相沉积设备

摘要

本发明的空间催化式化学气相沉积设备，其包括进气装置，所述进气装置包括：向基材输送的反应气出口及催化剂出口，隔离装置，其分布在催化剂气体周围，隔离装置使得催化剂气体在隔离装置围成的空间内分布得到精确控制，两反应气体在该催化剂集中的空间内的混合反应在空间上实现局域化；基于本发明设计，通过硬件设计控制催化剂在局域化空间的浓度分布，同时控制两侧反应气体扩散到该空间的进入量，进而能够精确控制局域空间内催化反应的反应速率，通过进气装置与基材之间的相对运动，在基材上均匀沉积成膜。

主权项

1.一种空间催化式化学气相沉积设备，其包括：进气装置，含第一出气口，其用于向所述基材输送反应气体A；第二出气口用于向所述基材输送催化剂气体C；第三出气口，其用于向所述基材输送反应气体B；第四出气口，用于向所述基材输送催化剂气体C；隔离装置，分布在催化剂气体C周围，隔离装置使得催化剂气体C集中分布在隔离装置围成的空间内，两反应气体在催化剂集中的空间内的混合反应实现在空间上的局域化；(ACBC)...式周期结构所需三种气体四个出气口以及分布在催化剂出气口周围的隔离装置组成最小周期复合结构单元，出气口(ACBC)m，m≥1；基材，用于表面反应沉积成膜；驱动装置，用于驱动所述进气装置进气口和/或基材；温控装置，用于控制基材表面反应温度。