[发明专利]一种青椒的高产种植方法

摘要

本发明提供一种青椒的高产种植方法，属于农业种植领域，具体包括以下步骤：选土地肥沃疏松、排灌方便、保水保肥的田块进行种植，种植前在田块中施加由松子壳、红薯秧、芭蕉叶、甘蔗叶、苹果皮、辣椒秧、猪粪、藏青果提取物、翼首草提取物、添加剂经过混合发酵制得的基肥，选取青椒幼苗定植后进行合理的管理直至采收。本发明提出的高产种植方法能提高青椒种植的成活率，预防病害，节约肥料，适用于大规模系统化种植，可为农户增产增收。

主权项

1.一种青椒的高产种植方法，其特征在于，包括以下步骤：S1:种植前24‑27d，在种植田中施入基肥并耕翻入土、纵横耙地，然后覆盖地膜；其中，所述基肥是由松子壳、红薯秧、芭蕉叶、甘蔗叶、苹果皮、辣椒秧、猪粪、藏青果提取物、翼首草提取物、添加剂经过混合发酵制得；其中，所述基肥的使用量为0.6‑0.7t/亩，所述添加剂是由硫酸钾、硼酸钠、硝酸钙、氯化铁混合制成；S2:将青椒种子在阳光下晒2d‑3d，在放于50‑55℃的清水浸泡10min后取出，浸泡时辅以超声波震荡，浸泡后将种子放于浓度为0.8wt％的次氯酸钠浸种5‑10min，然后再用清水冲洗后置于恒温箱中于25‑28℃催芽，种子露白后将其播种在育秧田上，当幼苗生长至10‑12片真叶时即可准备移栽；S3:将幼苗移栽至S1所述田地中，移栽后每间隔7‑10d喷洒一次营养液；其中，所述营养液是由S1所述基肥、磷酸二氢钾和水按照8:0.2:30的质量比混合制成。