[发明专利]放电等离子体处理微堆层结构绝缘材料表面的装置及方法有效
| 申请号： | 201810085786.X | 申请日： | 2018-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN108281243B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 王珏;严萍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | H01B19/04 | 分类号： | H01B19/04 |
| 代理公司： | 北京君泊知识产权代理有限公司 11496 | 代理人： | 王程远;胡玉章 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种放电等离子体处理微堆层结构绝缘材料表面的装置，该装置包括：高压引入极一端通过电源高压输出端子与脉冲电源连接，另一端通过高压导电杆与高压电极连接；接地电极设于高压电极的正下方，接地电极通过接地导电杆与底座连接并接地；被处理试样固定于高压电极和接地电极之间，且被处理试样与高压电极和接地电极紧密贴合无间隙。本发明还公开了一种放电等离子体处理微堆层结构绝缘材料表面的方法，包括：步骤1、根据各设备的连接组装处理装置；步骤2、放置被处理试样使其固定于高压电极与接地电极之间且不存在间隙；步骤3、打开脉冲电源形成均匀的辉光放电；步骤4、辉光放电产生的低温等离子体对被处理试样表面进行融蚀处理。 | ||
| 搜索关键词： | 放电 等离子体 处理 微堆层 结构 绝缘材料 表面 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种放电等离子体处理微堆层结构绝缘材料表面的装置，其特征在于，包括：高压引入极(1)，其一端通过电源高压输出端子(13)与脉冲电源(12)连接，所述高压引入极(1)另一端通过高压导电杆(4)与高压电极(5)连接；接地电极(7)，其设于所述高压电极(5)的正下方，所述接地电极(7)通过接地导电杆(8)与底座(11)连接并接地；被处理试样(6)，其固定于所述高压电极(5)和所述接地电极(7)之间，且所述被处理试样(6)与所述高压电极(5)和所述接地电极(7)紧密贴合无间隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院电工研究所，未经中国科学院电工研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810085786.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
