[发明专利]一种具有三台阶抗反射结构的红外光学窗口及其制备方法在审
| 申请号： | 201810056948.7 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108254811A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 何少伟;陈志祥;陈定辉;范文聪 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 徐金琼;刘东 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有三台阶抗反射结构的红外光学窗口，包括红外光学窗口，所述红外光学窗口的入射面刻蚀有三台阶的抗反射结构，其制备方法为：硅片预处理，使用掩膜版在硅片上刻蚀抗三台阶反射结构，包括刻蚀第一台阶结构层、刻蚀第二台阶结构层、刻蚀第三台阶结构层，上述刻蚀抗反射结构的方法采用感应耦合等离子体刻蚀机，使用刻蚀与钝化相结合的工艺进行刻蚀，刻蚀气体为SF6，钝化气体为C4F8，在刻蚀与钝化的过程中加入惰性气体He。本发明的这种结构可明显增加红外窗口的透过率，提高红外器件的灵敏度，降低了台阶结构的高度，结构参数，台阶周期及深度的变化对透过率影响，制备方法提高了器件制作的工艺容差，降低了工艺制作难度。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 红外光学窗口 抗反射结构 台阶结构 制备 透过率 硅片 钝化 感应耦合等离子体刻蚀机 预处理 钝化气体 惰性气体 反射结构 工艺制作 红外窗口 红外器件 结构参数 刻蚀气体 器件制作 灵敏度 入射面 掩膜版 容差 | ||
【主权项】：
1.一种具有三台阶抗反射结构的红外光学窗口，包括红外光学窗口，其特征在于：所述红外光学窗口的入射面刻蚀有三台阶的抗反射结构。
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