[发明专利]气液两相放电等离子体材料表面处理装置在审

专利信息
申请号: 201810055646.8 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN108337797A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 陈玉伟;陈秉岩;蒋永锋;何湘;朱昌平;田泽;方培森 申请(专利权)人: 河海大学常州校区
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 严晓彪;董建林
地址: 213022 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了气液两相放电等离子体材料表面处理装置,将高压气体通过流量计注入介质阻挡放电中,气体种类可根据加工对象进行调整。介质阻挡放电产生的大量活性粒子注入到液相中,利用液相中特殊活化性能对工件表面进行处理。通过紫外传感器检测产生的各种活性粒子,并传输到数据采集与控制单元,显示当前装置的工作状态,并实现在线实时动态调整,进而实现对液相中工件表面处理的自动化。通过二维平台控制工件移动,实现连续、均匀表面的处理。其有效提高了介质阻挡放电所产生等离子体活性物质与工件的表面接触面积,增大了射流设备的工作效率。
搜索关键词: 介质阻挡放电 材料表面处理 放电等离子体 活性粒子 气液两相 流量计 数据采集与控制 等离子体活性 工件表面处理 实时动态调整 紫外传感器 二维平台 高压气体 工件表面 工件移动 工作效率 活化性能 加工对象 均匀表面 射流设备 自动化 传输 检测
【主权项】:
1.气液两相放电等离子体材料表面处理装置,其特征在于,包括分别与数据采集与控制单元连接的等离子体射流、紫外传感器,紫外传感器监测射流等离子体的底端;所述等离子体射流包括底端正对液面的反应室,所述反应室的腔底设有介质阻挡放电喷头,腔顶接高压气管;所述介质阻挡放电喷头包括内置电极的绝缘介质管组成;高压激励电源为电极和液电极供电。
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