[发明专利]水雾介质阻挡放电等离子体及表面处理装置在审
| 申请号： | 201810055645.3 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108135067A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 陈秉岩;陈玉伟;蒋永锋;何湘;朱昌平;田泽;甘育麟 | 申请（专利权）人： | 河海大学常州校区 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 严晓彪;董建林 |
| 地址： | 213022 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了水雾介质阻挡放电等离子体及表面处理装置，将高压气体通过质量流量计引入射流装置中，气体种类可根据加工对象进行调整，利用雾化喷嘴将液体处理为气雾或液滴，并在高压气体作用下注入介质阻挡放电中。介质阻挡放电产生的大量活性粒子扩散到液相中，利用液相中特殊活化性能对工件表面进行处理。通过紫外传感器检测产生的各种活性粒子，并传输到数据采集与控制单元，显示当前装置的工作状态，并实现在线实时动态调整，进而实现对液相中工件表面处理的自动化。通过二维平台控制工件移动，实现连续、均匀表面的处理。其有效提高了介质阻挡放电所产生等离子体活性物质与工件的表面接触面积，增大了射流设备的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 介质阻挡放电 等离子体 表面处理装置 活性粒子 水雾介质 阻挡放电 数据采集与控制 等离子体活性 高压气体作用 工件表面处理 实时动态调整 质量流量计 紫外传感器 二维平台 高压气体 工件表面 工件移动 工作效率 活化性能 加工对象 均匀表面 射流设备 射流装置 雾化喷嘴 液体处理 气雾 液滴 自动化 扩散 传输 检测 引入 | ||
【主权项】：
水雾介质阻挡放电等离子体装置，其特征在于，反应室腔底的介质阻挡放电喷头贴近液面，腔顶设有接并联气管和液管的雾化喷嘴；介质阻挡放电喷头由若干平行、内置电极的绝缘介质管组成；高压激励电源为电极和液电极供电。
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