[发明专利]像素单元及其制造方法以及成像装置

摘要

本公开涉及像素单元及其制造方法以及成像装置。像素单元可以包括衬底，其包括用于光电器件的第一部分和用于与所述光电器件耦合的晶体管的第二部分。第一部分在衬底表面处具有第一表面，并且第一部分包括第一掺杂区。第二部分包括：沟道形成区，与第一掺杂区相邻，沟道形成区的导电类型与第一掺杂区的导电类型相反，以及与沟道形成区相邻的第二掺杂区。像素单元还包括：在衬底之上且至少覆盖第一表面的至少一部分的调节绝缘层；以及至少在第一表面的至少一部分之上的调节电极层，调节绝缘层插入在二者之间。

主权项

1.一种像素单元，其特征在于，包括：衬底，包括用于光电器件的第一部分和用于与所述光电器件耦合的晶体管的第二部分，其中所述第一部分在所述衬底表面处具有第一表面，并且所述第一部分包括第一掺杂区；所述第二部分包括：沟道形成区，与所述第一掺杂区相邻，所述沟道形成区的导电类型与所述第一掺杂区的导电类型相反，以及与沟道形成区相邻的第二掺杂区；在所述衬底之上且至少覆盖所述第一表面的至少一部分的调节绝缘层；以及至少在所述第一表面的所述至少一部分之上的调节电极层，所述调节绝缘层插入在二者之间。