[发明专利]一种高质高产黄瓜的种植土壤改良方法

摘要

本发明提出了一种高质高产黄瓜的种植土壤改良方法，包括选地，并在移栽前5‑7天对土地进行翻耕；调节土壤pH值为5.8‑6.3，撒施复合土壤改良剂，翻耕入土后喷洒饱和石灰水；1‑2天后作深沟高畦，并分别在畦面、沟面中心挖留沟槽，然后向畦面沟槽内施加底肥一，向沟面沟槽内施加底肥二，再覆土至离畦面或沟面3‑5cm，铺撒复合改性料2±1cm，然后继续覆土整平，并表面撒施固体废弃料，覆膜；移栽前1天傍晚将膜掀除，挖定植坑，浇透水；移栽时瓜苗带土定植，浇足定根水，覆土即可，本发明对瓜苗种植前的土壤进行改良改造，营养成分富足，供给力强，有效促进了瓜苗的生长，且具有良好的抗病害能力，黄瓜产量大幅提高。

主权项

1.一种高质高产黄瓜的种植土壤改良方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)选择地势平缓、土质深厚肥沃、便于排灌的沙壤土地，移栽前5‑7天对土地进行翻耕，翻耕深度为50±5cm；

2)调节土壤pH值为5.8‑6.3，撒施复合土壤改良剂，翻耕入土后喷洒饱和石灰水；

3)1‑2天后作深沟高畦，畦宽1.1‑1.3m，畦高30‑35cm，沟宽30‑35cm，并在畦面中心挖留40‑60cm宽、25‑30cm深的沟槽，在沟面挖留15‑20cm宽、10‑15cm深的沟槽，向畦面沟槽内施加底肥一，向沟面沟槽内施加底肥二，然后覆土至离畦面或沟面3‑5cm，铺撒复合改性料2±1cm，然后继续覆土整平，并表面撒施固体废弃料，覆膜；

4)移栽前1天傍晚将膜掀除，挖定植坑，每畦面栽2行，行距50‑70cm，株距为20‑30cm，然后浇透水；

5)移栽时选择至少有2片真叶的瓜苗带土定植，浇定根水，覆土封闭定植坑即可。

2.根据权利要求1所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：步骤2)中复合土壤改良剂施加量为450‑600kg/亩，饱和石灰水喷洒量为100‑150kg/亩。

3.根据权利要求2所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：所述复合土壤改良剂包括以下质量百分含量组分：蛭石8‑16％、稻壳5‑20％、酸性土壤真菌1‑5％、柠檬酸铁0.2‑1％、松针土15‑25％、沙土余量。

4.根据权利要求1所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：步骤3)中底肥一包括腐熟农家肥1500‑2000kg/亩、过磷酸钙15‑20kg/亩、磷酸二氢钾3‑5kg/亩、尿素3‑5kg/亩、酵母粉2‑6kg/亩。

5.根据权利要求1所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：步骤3)中底肥二包括腐熟农家肥600‑1000kg/亩、草木灰5‑15kg/亩、尿磷酸铵2‑5kg/亩。

6.根据权利要求1所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：步骤3)中复合改性料包括以下百分含量组分：膨胀蛭石15‑30％、桐油2‑5％、海藻粉4‑10％、腐殖土15‑30％、沙土余量。

7.根据权利要求1所述的高质高产的黄瓜种植方法，其特征在于：步骤3)中固体废弃料为碎秸秆、稻壳、花生壳、木屑中的一种或多种组合物，固体废弃料撒施厚度为1‑2cm。