[发明专利]薄膜晶体管和场效应二极管在审
申请号: | 201810029520.3 | 申请日: | 2018-01-12 |
公开(公告)号: | CN109427912A | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 杜小龙;张永晖;梅增霞;梁会力 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/861;H01L29/423;H01L29/417 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;李科 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种薄膜晶体管和场效应二极管,所述薄膜晶体管包括绝缘层;位于所述绝缘层的相对两侧的闭合圆环形的沟道层和闭合圆环形的栅电极;以及与所述沟道层相接触的闭合圆环形的源电极和闭合圆环形的漏电极;所述场效应二极管包括绝缘层;位于所述绝缘层的相对两侧的闭合圆环形的沟道层和闭合圆环形的栅电极;以及与所述沟道层相接触的闭合圆环形的源电极和闭合圆环形的漏电极;所述漏电极与所述栅电极电连接。本发明的薄膜晶体管和场效应二极管的电极形状呈闭合圆环形,其电场沿各个方向更加均匀分布,消除了电场强度的尖峰,从而提高了电压耐受能力。 | ||
搜索关键词: | 闭合圆环形 绝缘层 场效应二极管 薄膜晶体管 沟道层 漏电极 栅电极 相对两侧 源电极 电压耐受能力 电场 尖峰 电极形状 电连接 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:绝缘层;位于所述绝缘层的相对两侧的闭合圆环形的沟道层和闭合圆环形的栅电极;以及与所述沟道层相接触的闭合圆环形的源电极和闭合圆环形的漏电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810029520.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种柔性薄膜晶体管及其制备方法
- 下一篇:半导体装置及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类