[发明专利]一种清洗装置在审
| 申请号： | 201810011738.6 | 申请日： | 2018-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN108221043A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 戚海平 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洗装置，通过在顶壁上设置隔板将清洗装置的清洗室间隔成连通的第一电极室和第二电极室，在第一电极室中设置第一排气口，第二电极室中设置第二排气口，可以将两个电极跟开，并且两个电极附近产生的氢气和氧气也被分隔开，各自通过相应的排气口排出，避免氢气和氧气的混合排放，安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗装置 第二电极 第一电极 氢气 电极 氧气 隔板 第二排气口 第一排气口 排气口排 清洗室 顶壁 分隔 连通 排放 | ||
【主权项】：
1.一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括清洗室，所述清洗室包括用于放置待清洗掩膜板的第一电极室及第二电极室，所述第一电极室与所述第二电极室相邻设置且彼此连通，所述第一电极室与所述第二电极室之间设置有将所述第一电极室和所述第二电极室隔开的隔板，所述隔板的一端固定于所述清洗室的顶壁上，所述第一电极室靠近所述顶壁的上部设置有第一排气口，所述第二电极室靠近所述顶壁的上部设置有第二排气口。
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