[发明专利]发声器件有效
申请号: | 201810006497.6 | 申请日: | 2018-01-04 |
公开(公告)号: | CN108307276B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 顾小江;唐权 | 申请(专利权)人: | 瑞声科技(新加坡)有限公司 |
主分类号: | H04R9/06 | 分类号: | H04R9/06;H04R9/02 |
代理公司: | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 鲍竹 |
地址: | 新加坡宏茂桥65*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种发声器件,包括盆架和固定于所述盆架的振动系统及驱动所述驱动系统振动发声的磁路系统,所述振动系统包括固定于所述盆架的振膜;所述盆架由侧壁围成,所述侧壁包括靠近并支撑固定所述振膜的顶面、与所述顶面相对设置的底面及由所述侧壁的外侧向其内侧方向凹陷形成的让位槽,所述让位槽的靠近所述底面的一端贯穿所述底面设置,所述让位槽的靠近所述顶面的一端未贯穿所述顶面。与相关技术相比,本发明的发声器件生产成本低,注塑效率高且防水等可靠性优。 | ||
搜索关键词: | 发声 器件 | ||
【主权项】:
1.一种发声器件,包括盆架和固定于所述盆架的振动系统及驱动所述驱动系统振动发声的磁路系统,所述振动系统包括固定于所述盆架的振膜,其特征在于,所述盆架由侧壁围成,所述侧壁包括靠近并支撑固定所述振膜的顶面、与所述顶面相对设置的底面及由所述侧壁的外侧向其内侧方向凹陷形成的让位槽,所述让位槽的靠近所述底面的一端贯穿所述底面设置,所述让位槽的靠近所述顶面的一端未贯穿所述顶面。
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