[发明专利]蚀刻液组合物、配线、显示装置用阵列基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201810001365.4 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108265296B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 李承洙;权玟廷;沈庆辅 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/20 | 分类号： | C23F1/20;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供蚀刻液组合物、配线、显示装置用阵列基板及其制造方法，该蚀刻液组合物包含硝酸、磷酸、乙酸、氯系化合物、磺酸系化合物、硫酸盐系化合物和水。相对于蚀刻液组合物总重量，磷酸为40～60重量％，硝酸为5～9重量％，乙酸为15～25重量％，氯系化合物为0.1～2重量％，磺酸系化合物为0.5～3重量％，硫酸盐系化合物为0.5～3重量％，水为使蚀刻液组合物总重量成为100重量％的余量。本发明的蚀刻液组合物具有蚀刻直进性和蚀刻均匀性优异的效果。此外，本发明的蚀刻液组合物具有在蚀刻透明导电膜时不产生尖端的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 配线 显示装置 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，相对于蚀刻液组合物总重量，包含：磷酸40～60重量％；硝酸5～9重量％；乙酸15～25重量％；氯系化合物0.1～2重量％；磺酸系化合物0.5～3重量％；硫酸盐系化合物0.5～3重量％；和使蚀刻液组合物总重量成为100重量％的余量的水。
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