[发明专利]用于可缩放亚微米增材制造的深度分辨的并行双光子聚合的系统和方法有效
| 申请号： | 201780096399.X | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN111316166B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 苏拉布·萨哈;罗伯特·帕纳西;陈世祈 | 申请（专利权）人： | 劳伦斯·利弗莫尔国家安全有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F3/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 刘雯鑫;杨林森 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容涉及一种用于执行增材制造操作以形成部件的方法，其中，该部件由光敏聚合物抗蚀剂材料制成。该方法可以涉及生成激光光束并将激光光束指向数字掩模处。可以控制数字掩模以选择性地产生具有如下细光束子集的光束：所述细光束子集形成图像并且所述细光束子集均具有足以引起当照射光敏聚合物抗蚀剂材料时所述材料的一部分的聚合的强度。可以对光束进行准直并且然后将细光束子集指向光敏聚合物抗蚀剂材料，以同时聚合光敏聚合物抗蚀剂材料的选定部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 缩放 微米 制造 深度 分辨 并行 光子 聚合 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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