[发明专利]卤素气体的去除剂、其制造方法以及去除卤素气体的系统有效
| 申请号： | 201780085775.5 | 申请日： | 2017-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN110267738B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 中嶋直仁;砂田健一朗;塩谷靖;金贤中 | 申请（专利权）人： | 日商科莱恩触媒股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J20/08 | 分类号： | B01J20/08;B01D53/68;B01D53/82;B01D53/86;B01J20/04;B01J20/18;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本东京文京区本驹込2丁目*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于将废气中的氯等卤素气体还原去除的去除剂、其制造方法、使用其的卤素气体去除方法以及去除卤素气体的系统。一种卤素气体去除剂，其至少含有作为主体材料的拟薄水铝石、与作为客体材料的含硫还原剂。以拟薄水铝石与含硫还原剂的合计量为基准，优选为以硫元素换算计包含1重量％～8重量％的还原剂，进而优选为进而包含碱土类金属元素、过渡金属元素、锌族元素的氧化物、碳酸盐、碳化氢盐中的至少一种无机化合物作为第三成分。 | ||
| 搜索关键词： | 卤素 气体 去除 制造 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
1.一种卤素气体去除剂，其至少含有拟薄水铝石与含硫还原剂。
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