[发明专利]气态排出物的净化方法

摘要

本发明净化含有至少一种挥发性有机化合物(COV)的气态排出物的净化方法，所述净化方法至少包括以下步骤:(a)制备至少一种深低共熔溶剂(DES)，其具有:(aa)至少一种配方化合物(I)R₁R₂R₃R₄Y⁺X^‑；以及(bb)至少一种化合物(II)，其是能够与X^‑形成络合物的氢键供体；以及(b)在适于由所述深低共熔溶剂吸收所述挥发性有机化合物的条件下，使步骤(a)的所述深低共熔溶剂与待净化的气态排出物接触。本发明还涉及使用至少一种深低共熔溶剂用于吸收气态排出物中含有的至少一种挥发性有机化合物，和涉及组合物，其具有至少一挥发性有机化合物和至少一深低共熔溶剂。

主权项

1.净化含有至少一种挥发性有机化合物(COV)的气态排出物的净化方法，其特征在于，所述净化方法至少包括以下步骤:(a)制备至少一种深低共熔溶剂(DES)，其具有:(aa)至少一种配方化合物(I)R₁R₂R₃R₄Y⁺X^‑，其中:‑Y是氮原子或者磷原子；‑R₁，R₂，R₃和R₄彼此独立地选自氢原子、C₁至C₁₈的直链或支链烷基、C₁至C₁₀的直链或支链烷氧基、C₃至C₁₀的环烷基、C₆至C₁₀的芳基或C₇至C₁₂的直链或支链芳烷基，所述烷基、烷氧基、环烷基、芳基和芳烷基可由一个或多个取代基取代，所述取代基选自羟基、卤原子、C₂至C₁₀的酰基、SR₅基、NH₂基、CN基、NO₂基、CO₂R₅基、CHO基、COR₅基和OR₅基，其中，R₅选自C₁至C₁₈的烷基和C₃至C₁₀的环烷基；以及‑X是卤原子；以及(bb)至少一种化合物(II)，其是能够与X^‑形成络合物的氢键供体；以及(b)在适于由所述深低共熔溶剂吸收所述挥发性有机化合物的条件下使步骤(a)的所述深低共熔溶剂与待净化的所述气态排出物接触。