[发明专利]光学膜及光学膜的制造方法有效
| 申请号： | 201780079610.7 | 申请日： | 2017-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN110100192B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 松本彩子;伊吹俊太郎;增田千裕 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;B05D3/12;B29C43/24;B32B7/023;C08J7/046 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的光学膜具有基材和硬涂层，且铅笔硬度为2H以上，通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，将入射光从相对于光学膜的法线方向‑60°入射时，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。本发明的光学膜的制造方法具有在基材上涂布硬涂层形成用组合物来设置涂膜的工序以及一边使涂膜与平滑的1个金属辊接触一边进行固化的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学膜，具有基材和硬涂层，根据JIS K 5600‑5‑4:1999测定的铅笔硬度为2H以上，根据JIS P 8115:2001通过MIT试验机测定的抗折次数为1000次以上，将入射光从相对于光学膜的法线方向‑60°入射，成为射出光峰值强度的10％的角度的宽度在6°以内，且从法线方向起50°处的射出光的强度为射出光峰值强度的1％以下。
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