[发明专利]印迹图像中的背景信号的减少有效

专利信息
申请号: 201780079598.X 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN110100198B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: C·T·麦基;M·格里芬 申请(专利权)人: 生物辐射实验室股份有限公司
主分类号: G02B13/22 分类号: G02B13/22;G02B9/36;G02B27/14
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于产生印迹图像的系统和方法。使用具有视场和放大率的成像系统对例如蛋白质印迹的印迹进行成像。该印迹中感兴趣特征对应于数字图像中的特征,并且数字图像中的特征的尺寸取决于成像系统的放大率。基于数字图像中的特征的尺寸和形状来选择结构化要素,并且该图像以形态学方式被腐蚀和被膨胀变化的次数。从原始印迹图像减去经腐蚀和膨胀的图像,以从印迹图像中去除背景信号,从而产生输出图像。完全腐蚀感兴趣特征所需的腐蚀数量是自动确定的,例如通过研究与所执行的腐蚀数量有关的、输出图像的峰度的特性来自动确定。
搜索关键词: 印迹 图像 中的 背景 信号 减少
【主权项】:
1.一种系统,包括:成像装置,所述成像装置具有视场和放大率,所述成像装置被配置成用于产生具有感兴趣特征的生物印迹的第一数字图像,所述第一数字图像包括所述感兴趣特征,其中所述第一数字图像中的所述感兴趣特征的尺寸部分地由所述成像装置的所述放大率确定,并且所述第一数字图像中的所述感兴趣特征的形状部分地由用于产生所述印迹的特定技术确定;以及处理器,所述处理器被编程用于:选择结构化要素,其中至少部分地基于所述第一数字图像中的所述感兴趣特征的所述尺寸和形状来选择所述结构化要素的尺寸和形状;使用所述结构化要素执行所述第一数字图像的形态学腐蚀以产生第二数字图像,其中所述形态学腐蚀被执行从所述第一数字图像完全腐蚀所述感兴趣特征所需的次数;以及随后使用所述结构化要素执行所述第二数字图像的形态学膨胀,以产生经腐蚀和膨胀的图像,其中所述形态学膨胀被执行与所述形态学腐蚀的次数相同的次数;通过从所述第一数字图像减去所述经腐蚀和膨胀的图像来产生输出数字图像;其中,自动确定完全腐蚀所述感兴趣特征所需的所述次数。
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